Chemical Vapor Deposition (journal)

Chemical Vapor Deposition (journal)
Chemical Vapor Deposition  
Titre abrégé Chem. Vap. Deposition
CVD
Discipline Chimie
Langue Anglais
Directeur de publication Michael L. Hitchman
Publication
Maison d’édition John Wiley & Sons (Drapeau d'Allemagne Allemagne)
Période de publication 1995 à aujourd'hui
Facteur d’impact
d'après l’ISI		 1,829 (2009)
Fréquence 12 numéros par an
Indexation
ISSN 0948-1907 (papier)
1521-3862 (web)
LCCN 2001227291
CODEN CVDEFX
Liens

Chemical Vapor Deposition (abrégé en Chem. Vap. Deposition ou CVD) est une revue scientifique à comité de lecture qui publie des articles concernant tous les aspects du dépôt chimique en phase vapeur[1].

D'après le Journal Citation Reports, le facteur d'impact de ce journal était de 1,829 en 2009. L'actuel directeur de publication est Michael L. Hitchman[2].

Références


v · électrochimie
A-E Bioelectrochemistry • Biosensors & Bioelectronics • Chemical Vapor Deposition • Electroanalysis •Electrochemical Society Interface •Electrochemical and Solid-State Letters • Electrochemistry Communications • Electrochimica Acta
F-M Fuel Cells • International Journal of Electrochemical Science • Ionics • Journal of Applied Electrochemistry • Journal of Electroanalytical Chemistry • Journal of Fuel Cell Science and Technology • Journal of New Materials for Electrochemical Systems • Journal of Power Sources • Journal of Solid State Electrochemistry • Journal of the Electrochemical Society
N-Z Sensors • Sensors and Actuators B: Chemical • Transactions of the Institute of Metal Finishing

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